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[ TPMPNVON2HT ] VL Nanofabrikation II: Halbleitertechnologie

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Es ist eine neuere Version 2019W dieser LV im Curriculum Masterstudium Nanoscience and -Technology 2019W vorhanden.
Workload Ausbildungslevel Studienfachbereich VerantwortlicheR Semesterstunden Anbietende Uni
3 ECTS M1 - Master 1. Jahr Physik Gunther Springholz 2 SSt Johannes Kepler Universität Linz
Detailinformationen
Quellcurriculum Masterstudium Nanoscience and -Technology 2012W
Ziele Vermittlung von grundlegenden Kenntnissen über die wichtigsten "top-down" Verfahren zur Herstellung von Nanostrukturen, mit dem Schwerpunkt auf die Herstellungsverfahren für Halbleiterbauelemente und Mikrochips (Halbleitertechnologie).
Lehrinhalte „Top-down" Nanofabrikationsmethoden.
Themen: VLSI Technologie, MOSFET Transistor, Halbleiterwafer, Photolithographie, Elektronenstrahllithographie, Strukturtransfer durch chemische und Plasma-Ätzverfahren, Oxidation, Implantation, Abscheidung von Schichten, Anwendung für Herstellung von integrierten Schaltungen.
Beurteilungskriterien Mündliche Prüfung, Termine nach Vereinbahrung.
Lehrmethoden Vorlesung
Abhaltungssprache Deutsch oder Englisch
Literatur Skriptum kann im KUSSS heruntergeladen werden. Zusätzliche Literatur wird in der Vorlesung bekanntgegeben.
Lehrinhalte wechselnd? Nein
Sonstige Informationen Grundlegende Vorlesung für Master- und Doktoraststudierende die sich für Nano- und Materialwissenschaften interessieren. Begleitend zur Vorlesung kann ein Praktikum mit praktischen Versuchen absolviert werden (siehe Praktikum Nanofabrication II).
Äquivalenzen TPMPNVONAF2: VO Nanofabrikation II (3 ECTS) bzw.
TPMWNVOHLTE: VO Halbleitertechnologie (3 ECTS)
Präsenzlehrveranstaltung
Teilungsziffer -
Zuteilungsverfahren Direktzuteilung