| Detailinformationen |
| Quellcurriculum |
Masterstudium Nanoscience and -Technology 2012W |
| Ziele |
Vermittlung von grundlegenden Kenntnissen über die wichtigsten "top-down" Verfahren zur Herstellung von Nanostrukturen, mit dem Schwerpunkt auf die Herstellungsverfahren für Halbleiterbauelemente und Mikrochips (Halbleitertechnologie).
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| Lehrinhalte |
„Top-down" Nanofabrikationsmethoden.
Themen: VLSI Technologie, MOSFET Transistor, Halbleiterwafer, Photolithographie, Elektronenstrahllithographie, Strukturtransfer durch chemische und Plasma-Ätzverfahren, Oxidation, Implantation, Abscheidung von Schichten,
Anwendung für Herstellung von integrierten Schaltungen.
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| Beurteilungskriterien |
Mündliche Prüfung, Termine nach Vereinbahrung.
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| Lehrmethoden |
Vorlesung
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| Abhaltungssprache |
Deutsch oder Englisch |
| Literatur |
Skriptum kann im KUSSS heruntergeladen werden.
Zusätzliche Literatur wird in der Vorlesung bekanntgegeben.
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| Lehrinhalte wechselnd? |
Nein |
| Sonstige Informationen |
Grundlegende Vorlesung für Master- und Doktoraststudierende die sich für Nano- und Materialwissenschaften interessieren.
Begleitend zur Vorlesung kann ein Praktikum mit praktischen Versuchen absolviert werden (siehe Praktikum Nanofabrication II).
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| Äquivalenzen |
TPMPNVONAF2: VO Nanofabrikation II (3 ECTS) bzw.
TPMWNVOHLTE: VO Halbleitertechnologie (3 ECTS)
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